在干法制粒机的实际生产中，经常会遇到压力跟踪出现波动的情况。一般遇到压力跟踪超过设定挤压压力的比较多，这是因为螺杆往下推送的力大于挤压油缸推压辊的力，两个压辊被送料推开，压辊间隙变大，所以压力跟踪超过设定挤压压力。这种情况是正常的，干法制粒机的原理就是硬挤。
但是我们发现设备在长期带回料反复回压生产时，越做到后期，压出的颗粒越黑，硬度过高等现象，这时就需要人工去调整参数。这是因为回料本身带有小颗粒，其堆密度和流通性与新料不一样，所以需要人工经常调整参数。为了解决这个问题，我们在设备PLC程序中加入了根据压力控制压辊转速的PID补偿。主要目的是为了解决长时间生产加工时，因为投入的物料特性不稳定，需要经常调整参数的问题，让干法制粒机自动调整参数。
下图是19年版程序有关PID补偿的相关参数——绿框中
程序原理是根据压力跟踪与设定的挤压压力之间的偏差来控制压辊的增速幅度，压辊转的快了，物料的受压过程就短了，那么就达到自动调整的目的。但是有时候物料含糖量高，湿度大容易粘，我们就是需要低设置压力，高压力跟踪去做，比如热敏物料、含糖高物料之类的，如果不更改PID补偿参数的话，会出现刚开始时调整的很好，但是越走压辊出片越软，压力跟踪变低的情况，这就是PID补偿参数在补偿，这时我们就要修改这套程序或者直接屏蔽掉，一般更改比例增益就可以了，可以改小这个数值或者直接设0就可以屏蔽补偿。
在21年程序中我们不需要在参数画面中修改PID算法细节，只输入需要增速的压差和相应的增速就可以了，程序会在后台补偿计算，降低了操作难度。同时提供了3段增速，操作性更强。也加入了显示补偿速度的实际数值，更直观。.png)
在21年版程序中，如果想要屏蔽补偿，将无补偿波动压差设200或者很大一个数值就可以了。21年版程序压辊转速补偿的介绍操作视频已在优酷网上新，如需要请联系华拳售后予以授权观看。
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2021年下半年，华拳牌干法制粒机将全系配备压辊间距检测功能，该功能不仅可以精准的检测两个压辊之间的距离，还可以调整压辊间距。其中调整压辊间距的功能,因为检测的压辊距离是个绝对值，所以在合适的条件下是解决长期带回料生产的另一种方法。它抛开传统的监视压力跟踪，以压辊间距为监视单位，通过调整压辊间距来达到稳定生产的目的。.jpeg)
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